(一)基本结构
半导体三极管(简称晶体管)是在一块半导体上生成两个pn结组成,有npn和pnp两大类型,其结构和符号如下图
由图可见,它们有三个区,分别称为发射区、基区和集电区。三个区各引出一个电极,分别称为发射极e、基极b、集电极c。发射区和基区之间形成的pn结称发射结,基区和集电区之间的pn结称集电结。晶体管制造工艺的特点是:发射区掺杂浓度高,基区很薄且掺杂浓度很低,集电区掺杂浓度低且结面积比发射结大。这些特点是晶体管具有电流放大能力的内部条件。
(二)晶体管的放大原理
1、晶体管的工作状态及其外部条件
(1)开关状态 (2)放大状态
晶体管处于放大状态的条件:为了使晶体管具有放大作用,除了结构上的条件外,还必须有合适的外部条件。这就是要求外加电压使发射结正偏,集电结反偏。根据偏置要求,外加直流电源与管子的连接方式如下图所示。
npn型 pnp型
2.晶体管内部载流子的传输过程:晶体管在放大电路中有三种连接方式(或称组态),即共发射极、共基极和共集电极接法,如下图所示。
3、晶体管处于放大状态的电路配置及相关计算
(1)固定偏置方案
(2)分压式偏置方案
(3)偏置方案3
3、晶体管处于放大状态时的小信号模型
1、获取晶体管放大电路的“小信号模型”方法
2、固定偏执放大电路的电压放大能力
3、分压式偏执放大电路的电压放大能力
(1)含旁路电容 (2)不含旁路电容